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近日，关于台积电2纳米制程技术遭窃的传闻引发广泛关注，其中一家涉事企业为日本知名企业TEL（东京电子）。
据悉，在该事件曝光前，日本方面已派出高层代表前往台积电表达歉意，但遭到拒绝。台积电方面态度坚决，已正式提告并启动法律程序，显示出对知识产权保护的高度重视。
目前案件尚在审理中，最终结果仍未可知。但从以往类似案例来看，涉及泄密的相关人员通常会面临严厉的法律后果，甚至在服刑结束后也难以在业内重新就业。
台积电的法务团队在业内素以强势著称，不仅对技术泄密行为追责到底，即便员工离职后若存在技术相关争议，也可能面临法律追责。
一个典型例子就是曾担任台积电研发要职的梁孟松。他是台积电研发团队中的关键人物之一，在推动0.13微米工艺技术突破中发挥了重要作用。从这一代工艺开始，台积电逐步放弃与IBM等国际企业的合作研发模式，转向自主技术创新，为日后在全球晶圆代工领域的领先地位奠定了坚实基础。
不过，梁孟松于2009年离开台积电，具体原因众说纷纭，有传闻称其因未能获得应有的重视及发展空间，最终选择出走。他在2006年先赴韩国成均馆大学任教，两年后竞业协议期满，正式加入三星。
在三星期间，他主导了14纳米工艺的研发，该工艺被视为三星半导体制造的里程碑。当时苹果A9芯片由三星与另一厂商共同代工，正是这一代工艺的代表作。
此举引发台积电强烈不满，随后对梁孟松提起法律诉讼，双方缠讼四年，最终迫使梁孟松离开三星。
此后，他来到中国大陆，加入中芯国际，参与技术体系建设与研发推进。
事实上，中芯国际自成立以来，在技术发展过程中曾多次与台积电产生纠纷。两家公司在知识产权等方面的较量由来已久，甚至其创始人的关系也颇具复杂背景，曾引发多轮法律交锋，一度对中芯国际的经营造成严重影响。相关事件背景复杂，非三言两语所能道尽。 | 
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